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发明名称
SiOx:Si溅镀靶材及制造与使用此等靶材之方法
摘要
本发明系关于在一保护性环境下接合氧化矽及导电性掺杂矽材料以产生一SiOx:Si复合材料,该复合材料显示出SiOx之性质,且归因于Si之存在而具有导电性。此复合材料用作DC及/或AC溅镀制程之靶材以产生用于触碰萤幕应用之氧化矽薄膜、在LCD显示器中之障壁薄膜及广泛用于多种应用中之光学薄膜。
申请公布号
TW200720452
申请公布日期
2007.06.01
申请号
TW095129716
申请日期
2006.08.10
申请人
温泰克电子光学有限公司
发明人
大卫E 史帝文森;周立昆
分类号
C23C14/10(2006.01);C23C14/54(2006.01)
主分类号
C23C14/10(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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