发明名称 用于光微影技术之组成物与制程
摘要 本发明系关于涂布于光阻组成物上之覆盖涂层(overcoating layer)组成物,其包括用于湿浸式微影制程(immersion lithography processing)及非湿浸式成像(non-immersionimaging)者。
申请公布号 TW200720841 申请公布日期 2007.06.01
申请号 TW095136654 申请日期 2006.10.03
申请人 罗门哈斯电子材料有限公司 发明人 王大洋;徐承柏
分类号 G03F7/004(2006.01);G03F7/039(2006.01);G03F7/09(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 美国
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