发明名称 膜图案之形成方法、元件、光电装置、电子机器及主动型矩阵基板之制造方法
摘要 本发明系一种膜图案之形成方法,其包含以下步骤:于基板上配置第1岸堤形成材料以形成第1岸堤层之步骤;于前述第1岸堤层上配置第2岸堤形成材料以形成第2岸堤层之步骤;藉由图案化前述第1岸堤层与第2岸堤层,形成包含图案形成区域之岸堤之步骤,该图案形成区域包含第1图案形成区域与第2图案形成区域,该第2图案形成区域系与前述第1图案形成区域连续且宽度较前述第1图案形成区域为宽;及于藉由前述岸堤所划分之前述图案形成区域,配置功能液以形成前述膜图案之步骤;并且前述第1岸堤形成材料与第2岸堤形成材料均系以矽氧烷键作为主链所成之材料;前述第2岸堤形成材料系于侧链包含氟键之材料。
申请公布号 TW200721278 申请公布日期 2007.06.01
申请号 TW095126431 申请日期 2006.07.19
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 平井利充;守屋克之
分类号 H01L21/288(2006.01);H01L21/44(2006.01) 主分类号 H01L21/288(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本