发明名称 |
光学薄膜之处理方法、光学薄膜之处理装置及光学薄膜之制造方法 |
摘要 |
本发明之目的系关于一种可改善在长条薄膜上涂布防止反射层等之功能性层时易产生之横纹、涂布条纹等之涂布障碍的光学薄膜之处理方法及光学薄膜之处理装置。本发明之光学薄膜之处理方法,系以被液体润湿之弹性体擦拭所搬运之长条薄膜后,除去该长条薄膜表面之液体,其特征在于:该弹性体表面之静摩擦系数为0.2以上0.9以下。 |
申请公布号 |
TW200719982 |
申请公布日期 |
2007.06.01 |
申请号 |
TW095125277 |
申请日期 |
2006.07.11 |
申请人 |
柯尼卡美能达精密光学股份有限公司 |
发明人 |
森永义章;田中武志;中孝治 |
分类号 |
B05D3/00(2006.01);G02B1/11(2006.01) |
主分类号 |
B05D3/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |