发明名称 |
一高电阻率矽结构及用以制备其之制程 |
摘要 |
本发明一般而言系关于一种高电阻率CZ矽晶圆或其衍生的高电阻率矽结构及用以制备其之制程。特定言之,该高电阻率矽结构包含一大直径CZ矽晶圆作为其基板,其中该基板晶圆之电阻率由于其中受体原子(例如,錋)浓度而解耦,该基板之电阻率系实质上大于基于其中该等受体原子之浓度所计算之电阻率。 |
申请公布号 |
TW200720500 |
申请公布日期 |
2007.06.01 |
申请号 |
TW095118009 |
申请日期 |
2006.05.19 |
申请人 |
MEMC电子材料公司 |
发明人 |
罗伯特J 法斯特;瓦迪米尔V 微诺卡夫;吉连娜I 微诺卡瓦;安妮V 巴顿尼亚 |
分类号 |
C30B33/00(2006.01);C30B29/06(2006.01);C30B15/00(2006.01) |
主分类号 |
C30B33/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
美国 |