供使用于挠性电子电路导轨的形成方法

摘要

本发明系关于藉由以下方式在支撑物上形成导轨：提供一经涂布支撑物，其中涂层易于经由压力曝光而形成一潜影(例如，明胶中之卤化银乳液涂层)；根据一所需轨道图案压力曝光该经涂布支撑物，以形成该轨道图案之一潜影；及显影该潜影以形成一对应于该潜影之导电金属轨图案。该方法能够以极高解析度(例如，10μm或更小)形成导轨，视情况可在一挠性支撑物上形成。