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发明名称
真空处理装置之静电吸盘及其制造方法
摘要
一种真空处理装置之静电吸盘,其包含有一主基板,其具有多个突起物;一绝缘层,系形成于主基板上;一静电层,系形成于绝缘层上,并藉由一接收之电源而产生静电力;以及一介电层,系形成于静电层上。突起物具有多种形状且制造制程简单且稳定,对于大型基板之静电吸盘的制造亦同样地简单稳定。
申请公布号
TW200721915
申请公布日期
2007.06.01
申请号
TW094147572
申请日期
2005.12.30
申请人
整合流程系统股份有限公司
发明人
车勋;严用铎
分类号
H05F3/00(2006.01);C23C16/458(2006.01)
主分类号
H05F3/00(2006.01)
代理机构
代理人
许世正
主权项
地址
韩国
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