光阻图案增厚材料与形成光阻图案的方法,以及半导体元件与制造该半导体元件的方法

摘要

本发明系提供一种光阻图案增厚材料，其可利用ArF准分子雷射光；其－在涂覆遍及光阻图案，例如具有直线图案或等等的ArF光阻时－可使光阻图案增厚，而无关乎光阻图案的尺寸；其具有绝佳抗蚀性；并且其系适用于形成精细间隔图案或类似图案，而超越曝光极限。本发明亦提供形成光阻图案的方法及制造半导体元件的方法，其中本发明之光阻图案增厚材料系经适宜地利用。