发明名称 |
光阻组成物之制造方法、过滤装置、光阻组成物之涂布装置及光阻组成物 |
摘要 |
本发明系提供:可制得能抑制缺陷产生之光阻组成物之光阻组成物之制造方法、可适用于该制造方法之过滤装置、装载有该过滤装置之光阻组成物之涂布装置、及能抑制缺陷产生之光阻组成物。该组成物,系将可藉酸之作用改变硷可溶性之树脂成分、与可藉曝光产生酸之酸产生剂成分,溶解于有机溶剂形成光阻组成物,并使该光阻组成物通过具备聚乙烯制之空心丝膜之过滤器,藉此以制得。 |
申请公布号 |
TW200720858 |
申请公布日期 |
2007.06.01 |
申请号 |
TW095125935 |
申请日期 |
2006.07.14 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
室井雅昭;尾崎弘和 |
分类号 |
G03F7/26(2006.01);B01D61/14(2006.01);B01D71/26(2006.01);B01D71/56(2006.01);B01D35/02(2006.01);G03F7/16(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/26(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |