发明名称 光阻组成物之制造方法、过滤装置、光阻组成物之涂布装置及光阻组成物
摘要 本发明系提供:可制得能抑制缺陷产生之光阻组成物之光阻组成物之制造方法、可适用于该制造方法之过滤装置、装载有该过滤装置之光阻组成物之涂布装置、及能抑制缺陷产生之光阻组成物。该组成物,系将可藉酸之作用改变硷可溶性之树脂成分、与可藉曝光产生酸之酸产生剂成分,溶解于有机溶剂形成光阻组成物,并使该光阻组成物通过具备聚乙烯制之空心丝膜之过滤器,藉此以制得。
申请公布号 TW200720858 申请公布日期 2007.06.01
申请号 TW095125935 申请日期 2006.07.14
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 室井雅昭;尾崎弘和
分类号 G03F7/26(2006.01);B01D61/14(2006.01);B01D71/26(2006.01);B01D71/56(2006.01);B01D35/02(2006.01);G03F7/16(2006.01) 主分类号 G03F7/26(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本