发明名称 氧化铈研浆、氧化铈研磨液以及使用此的基板研磨方法
摘要 本发明提供藉由使氧化铈粒子的分散性达到最大状态而减小粗大粒子的含有比率,藉此同时实现减少研磨损伤以及使研磨速度高速化之氧化铈研浆、氧化铈研磨液以及使用此的基板研磨方法。本发明是关于一种含有氧化铈粒子、分散剂及水的氧化铈研浆,且氧化铈研磨液之氧化铈重量/分散剂重量比为20~80,以及有关于一种含有上述氧化铈研浆及水溶性高分子等添加剂的氧化铈研磨液。
申请公布号 TW200720382 申请公布日期 2007.06.01
申请号 TW095138334 申请日期 2006.10.18
申请人 日立化成工业股份有限公司 发明人 榎本和宏;吉川茂
分类号 C09G1/02(2006.01);C09K3/14(2006.01);C01F17/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 C09G1/02(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本
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