| 摘要 |
一种积体电路及其制造方法，其中，在半导体基板(20)上形成氮化矽膜(42)，作为第一层配线(26)和第二层配线(28)的层间绝缘膜。在摄像部(24)中，使氮化矽膜(42)的表面形成透镜形状，从而形成密集配置有凸透镜(44)的透镜阵列。在该氮化矽膜(42)的表面成膜氧化矽膜(48)。第二层Al膜形成在氧化矽膜(48)的表面上。从透镜阵列表面等将不要部分的Al膜蚀刻去除，从而形成配线(28)。由此，在使用其为Al配线之层间绝缘膜的氮化矽膜而形成微透镜阵列的积体电路中，防止Al配线的应力迁移和透镜形状的崩裂。 |
