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发明名称 METHOD FOR FORMING SILICON FILM BY TWO STEP DEPOSITION
摘要
申请公布号 KR20070055899(A) 申请公布日期 2007.05.31
申请号 KR20050114401 申请日期 2005.11.28
申请人 ANYEQUIP CO., LTD. 发明人 LEE, WON JUN;PARK, KWANG CHUL;SON, SANG HO;PARK, JAE KYUN;CHOI, JONG MUN;RHA, SA KYUN
分类号 C23C26/00;C23C16/00 主分类号 C23C26/00
代理机构 代理人
主权项
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