| 发明名称 |
Verfahren zur Bildung eines Fotolackmusters für eine Halbleitervorrichtung |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE19503985(B4) |
申请公布日期 |
2007.05.31 |
| 申请号 |
DE1995103985 |
申请日期 |
1995.02.07 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO. LTD. |
发明人 |
BAE, SANG MAN |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/3205;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/312 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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