发明名称 二氧化硅类微粒的制备方法、涂膜形成用涂料及覆有涂膜的基材
摘要 为了得到低折射率的二氧化硅类微粒,制成外壳内部具有空洞的中空球状二氧化硅类微粒。通过如下操作制备二氧化硅类微粒,即在碱性水溶液中同时加入硅酸盐水溶液及/或酸性硅酸液和碱可溶的无机化合物水溶液配制复合氧化物微粒分散液时,加入电解质盐直至电解质盐的摩尔数(M<SUB>E</SUB>)与SiO<SUB>2</SUB>的摩尔数(M<SUB>S</SUB>)之比(M<SUB>E</SUB>/M<SUB>S</SUB>)在0.1~10的范围内后,使粒子生长,然后,根据需要在上述复合氧化物微粒分散液中再加入电解质盐,之后加入酸除去至少一部分构成上述复合氧化物微粒的除硅之外的元素而制成。
申请公布号 CN1972866A 申请公布日期 2007.05.30
申请号 CN200480043378.4 申请日期 2004.07.08
申请人 触媒化成工业株式会社 发明人 村口良;熊泽光章;平井俊晴;平井正文
分类号 C01B33/18(2006.01);C09C1/28(2006.01);C09D201/00(2006.01);C09D7/12(2006.01) 主分类号 C01B33/18(2006.01)
代理机构 北京市金杜律师事务所 代理人 杨宏军
主权项 1、一种包括下述工序(a)及工序(b)的二氧化硅类微粒的制备方法,工序(a):在碱性水溶液中、或在根据需要分散有种粒子的碱性水溶液中,同时加入硅酸盐水溶液及/或酸性硅酸液和碱可溶的无机化合物水溶液,配制摩尔比MOX/SiO2在0.3~1.0的范围内的复合氧化物微粒分散液,其中SiO2表示二氧化硅,MOX表示二氧化硅以外的无机氧化物,在复合氧化物微粒的平均粒径达到5~50nm的时间点、在电解质盐的摩尔数ME与SiO2的摩尔数MS之比ME/MS在0.1~10的范围内添加电解质盐,工序(b):在所述复合氧化物微粒分散液中根据需要再加入电解质盐后,加入酸除去至少一部分构成上述复合氧化物微粒的除硅之外的元素,制成二氧化硅类微粒分散液。
地址 日本神奈川县