监测方法和系统以及原位测量工具

摘要

一种用于监测一蚀刻工艺的方法与系统。该蚀刻工艺可以使用量测信息，例如关键尺寸或层的厚度等，被监测。该量测信息是通过在该蚀刻工艺中所实施的关于该蚀刻工艺的离位与原位监测，例如光谱分析、干涉测量法、散射测量法，与反射测量法等所提供。离位量测信息与原位监测可以被用于监测，例如蚀刻工艺的一终点、形成于一基底的蚀刻纵深分布的一特征，以及一集成电路工艺的错误检测等。

主权项

1.一种用于监测一蚀刻工艺的方法，其特征是，该方法包括：(a)对一基底执行一预蚀刻测量，以产生一预蚀刻量测信息；(b)将该基底与该预蚀刻量测信息提供给一蚀刻反应器；(c)在该蚀刻反应器中使用一蚀刻工艺来蚀刻该基底，其中以该预蚀刻量测信息结合一蚀刻工艺监测，来监测一蚀刻工艺终点；以及(d)当该蚀刻工艺监测，确定该蚀刻工艺符合该蚀刻工艺终点时，终止该蚀刻工艺。