发明名称 半导体制造用气体喷射器基座
摘要 右视图与左视图对称,故省略右视图。
申请公布号 CN3652229D 申请公布日期 2007.05.30
申请号 CN200630131106.1 申请日期 2006.06.27
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 齐藤哲也;五味久;掛川崇
分类号 15-99 主分类号 15-99
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙 淳
主权项
地址 日本东京