| 发明名称 | 三色调衰减相移掩模的自对准制造技术 | ||
| 摘要 | 提供一种结构和方法以保证三色调衰减相移掩模的自对准制造。沿一个不透明区域的边缘设置一个0度相位，大于90％透射的亚分辨率边缘。该亚分辨率边缘和掩模的不透明和衰减区域的对准在一个单独的图形形成步骤中进行。在一个实施例中，一个狭窄的不透明区域可以由一个0度相位，大于90％的透射的亚分辨率线替代。 | ||
| 申请公布号 | CN1318912C | 申请公布日期 | 2007.05.30 |
| 申请号 | CN02806546.8 | 申请日期 | 2002.02.26 |
| 申请人 | 数字技术股份有限公司 | 发明人 | C·皮埃拉 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 刘佳 |
| 主权项 | 1.一种三色调衰减相移掩模，其特征在于，该掩模包括：多种结构，其中所述多种结构包括一个不透明区域，一个衰减区域和一个不透明区域和衰减区域之间的亚分辨率透明边缘；其中衰减区域相对于透明边缘有大约180度的相移。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||