发明名称 制造流过电解池的电解质室的均匀流的方法
摘要 本发明涉及制造电解池的电解质室的均匀流的方法,其中与平均流速的最大偏差小于1%至25%,这是通过合适的结构措施实现的。本发明还涉及含有至少两个电解质室(2,3)的电解池(1),电解质室中设置至少一个电极(4,5),且分别具有入口区和出口区。以使得压力再降低的方式减小入口和/或出口区的流动横截面。
申请公布号 CN1973062A 申请公布日期 2007.05.30
申请号 CN200580020648.4 申请日期 2005.04.18
申请人 巴斯福股份公司 发明人 H·伯恩克;H·普特尔;T·马特克
分类号 C25B15/02(2006.01);C25B15/08(2006.01);C25B9/08(2006.01) 主分类号 C25B15/02(2006.01)
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 林柏楠;刘金辉
主权项 1.制造流过电解池的电解质室的均匀流的方法,其中通过合适的设计手段实现与平均流速的小于1%至25%的最大偏差。
地址 德国路德维希港