发明名称 | 制造流过电解池的电解质室的均匀流的方法 | ||
摘要 | 本发明涉及制造电解池的电解质室的均匀流的方法,其中与平均流速的最大偏差小于1%至25%,这是通过合适的结构措施实现的。本发明还涉及含有至少两个电解质室(2,3)的电解池(1),电解质室中设置至少一个电极(4,5),且分别具有入口区和出口区。以使得压力再降低的方式减小入口和/或出口区的流动横截面。 | ||
申请公布号 | CN1973062A | 申请公布日期 | 2007.05.30 |
申请号 | CN200580020648.4 | 申请日期 | 2005.04.18 |
申请人 | 巴斯福股份公司 | 发明人 | H·伯恩克;H·普特尔;T·马特克 |
分类号 | C25B15/02(2006.01);C25B15/08(2006.01);C25B9/08(2006.01) | 主分类号 | C25B15/02(2006.01) |
代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 林柏楠;刘金辉 |
主权项 | 1.制造流过电解池的电解质室的均匀流的方法,其中通过合适的设计手段实现与平均流速的小于1%至25%的最大偏差。 | ||
地址 | 德国路德维希港 |