发明名称 高精度薄膜应力实时测量装置及测量方法
摘要 本发明提供一种高精度薄膜应力实时测量装置及测量方法,该装置由He-Ne激光器、反射镜、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算机组成。整个装置可以方便地安装在任一镀膜机上,He-Ne激光器、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算机均在镀膜机外,激光器光束通过镀膜机观察窗口进入镀膜室,通过反射镜调整方向射到基片上,反射光束再通过反射镜调整方向后从观察窗口出来,光电位敏探测器探测反射光束的偏转位移,数据采集卡采集光电位敏探测器的模拟信号并转化为数字信号给计算机。通过计算机对信号进行处理就可以实时监控薄膜的应力变化。本发明具有结构简单、精确度高、数据处理简便、与镀膜机兼容性强等特点。
申请公布号 CN1971248A 申请公布日期 2007.05.30
申请号 CN200610118432.8 申请日期 2006.11.17
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 申雁鸣;朱美萍;郭世海;夏志林;邵建达;贺洪波;易葵;范正修;邵淑英
分类号 G01N21/19(2006.01);G01L1/24(2006.01) 主分类号 G01N21/19(2006.01)
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 张泽纯
主权项 1、一种高精度薄膜应力实时测量装置,其特征在于该装置由He-Ne激光器(1)、第一反射镜(3-1)、第二反射镜(3-2)、第三反射镜(3-3)、光电位敏探测器(5)、A/D数据采集卡(6)和计算机(7)组成,其位置关系如下:在任一镀膜机的真空室(8)的观察窗口(2)外设置所述的He-Ne激光器(1)、光电位敏探测器(5)、A/D数据采集卡(6)和计算机(7),在镀膜机的真空室(8)内设置所述的第一反射镜(3-1)、第二反射镜(3-2)、第三反射镜(3-3),并安设镀膜基片(4),使He-Ne激光器(1)发出的激光由观察窗口(2)入射到第一反射镜(3-1)上,依次经第一反射镜(3-1)、镀膜基片(4)、第二反射镜(3-2)、第三反射镜(3-3)反射再由观察窗口(2)输出照射在所述的光电位敏探测器(5)上,该光电位敏探测器(5)的输出端经数据采集卡(6)与所述的计算机(7)输入端相连。
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