| 发明名称 | 材料的选择性掺杂 | ||
| 摘要 | 本发明涉及由如下方式选择性掺杂材料的方法：a)辐射预定预处理的图案/区域入材料，b)处理材料用于在预处理的图案/区域中产生反应性基团，和c)由原子层沉积方法掺杂材料用于在材料中产生由掺杂剂掺杂的图案/区域。本发明进一步涉及选择性掺杂的材料，制备选择性掺杂的材料的系统，和该方法的用途。 | ||
| 申请公布号 | CN1972879A | 申请公布日期 | 2007.05.30 |
| 申请号 | CN200580020698.2 | 申请日期 | 2005.06.23 |
| 申请人 | BENEQ有限公司 | 发明人 | M·拉亚拉;M·普特科宁;J·皮缅诺夫;L·尼尼斯特;J·佩伊韦萨里;J·库尔基 |
| 分类号 | C03C17/09(2006.01);C30B25/02(2006.01) | 主分类号 | C03C17/09(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 任宗华 |
| 主权项 | 1.一种材料的选择性掺杂方法，其特征在于，a)对材料辐射预定预处理的图案/区域，b)处理材料用于产生对预处理的图案/区域的反应性基团，和c)由原子层沉积方法掺杂材料用于对材料产生由掺杂剂掺杂的图案/区域。 | ||
| 地址 | 芬兰万塔 | ||