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发明名称
Photosensitive polymer having fluorinated cyclic monomer and resist composition comprising the same
摘要
申请公布号
KR100723470(B1)
申请公布日期
2007.05.30
申请号
KR20010036227
申请日期
2001.06.25
申请人
发明人
分类号
G03F7/004
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
主权项
地址
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