| 发明名称 | 使用全息光学捕获来操控和处理材料的系统和方法 | ||
| 摘要 | 一种使用通过使用衍射光学元件(DOE)调制激光光束而形成的光学陷阱来操控具有一个或多个特征的(微米、纳米、和皮米)颗粒的方法和装置。选择材料的至少一个特征；以及产生具有对应于该材料至少一个选定特征的选定波长的激光光束。计算与材料的至少一个选定特征相对应的DOE值。调制光束和DOE以产生具有对应于至少一个选定特征的特性的全息光学陷阱；将该陷阱聚焦到光束焦点或选定光斑尺寸；以及在靠近颗粒位置设置该光束焦点用于将该颗粒捕获其中。 | ||
| 申请公布号 | CN1973413A | 申请公布日期 | 2007.05.30 |
| 申请号 | CN200580013857.6 | 申请日期 | 2005.03.17 |
| 申请人 | 阿尔利克斯公司 | 发明人 | J·普莱瓦;E·坦纳;D·米特;L·格鲁伯;K·布拉德利 |
| 分类号 | H01S1/00(2006.01);H01S3/00(2006.01);G02B26/00(2006.01);H05H3/02(2006.01);G02B5/18(2006.01);G02B27/44(2006.01) | 主分类号 | H01S1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 陈炜 |
| 主权项 | 1.一种用于在具有一个或多个特征的操控空间中使用通过使用动态光学元件(DOE)调制电磁能量束而形成的光学陷阱来操控一个或多个颗粒的方法，包括以下步骤：选择所述颗粒的至少一个特征；产生至少一个电磁能量束，它具有对应于所述颗粒的至少一个选定特征的至少一个波长；选择所述DOE计算值，所述计算值对应于所述颗粒的至少一个选定特征；调制至少一个射束和所述DOE，以产生具有对应于至少一个选定特征的特性的至少一个全息光学陷阱；更改所述电磁能量束或所述操控空间中的至少一个，从而使所述操控空间中的所述电磁发射不均匀；以及将所述射束置于颗粒位置附近，用于将所述颗粒捕获入其中。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||