| 发明名称 | 等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明能够实现等离子体处理装置长度方向的等离子体均匀性，同时与多重处理对应。具有多个可变耦合器(12)的微波导管(10)设置在真空室(21)中，微波发生器(23中发生的微波通过波导管(24导入微波导管(10)中，该室(21)中的等离子体(22)由导入的微波(25)激发后产生。由未图示的驱动装置，按双向箭头所示的方向上下移动每个可变耦合器(12)，能够改变微波导管(10)中微波(25)的强度分布。 | ||
| 申请公布号 | CN1972552A | 申请公布日期 | 2007.05.30 |
| 申请号 | CN200610143929.5 | 申请日期 | 2006.11.03 |
| 申请人 | 国立大学法人东北大学;株式会社未来视野 | 发明人 | 大见忠弘;平山昌树;堀口贵弘 |
| 分类号 | H05H1/46(2006.01);H01P5/04(2006.01);H01P1/06(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H05H1/46(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1.一种等离子体处理装置，具有：在内部激发等离子体的容器，向该容器内提供激发等离子体所必需的微波的微波供给系统，与该微波供给系统连接、开设有缝隙的波导管，将从该缝隙中放出的微波传播到等离子体上的绝缘体板；其特征在于，在上述波导管的长度方向上设置有可变耦合器。 | ||
| 地址 | 日本宫城县 | ||