| 发明名称 | 一种沟槽的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种沟槽的制造方法，包括：提供一具有一垫层结构的基底；形成一第一硬掩模层于该垫层结构上；形成一图案化的第二硬掩模层于该第一硬掩模层上，露出一第一开口；形成一间隔层于该第一开口的侧壁以构成一较小的第二开口；形成一第三硬掩模层以填满该第二开口；去除该间隔层，蚀刻该第一硬掩模层，露出一第三开口，且该第一硬掩模层于该第三开口内具有一第一硬掩模层突出部分；以及蚀刻该第一硬掩模层、该第一硬掩模层突出部分、该垫层结构及该基底，以形成一具一中间突出部分的沟槽于该基底中。 | ||
| 申请公布号 | CN1319153C | 申请公布日期 | 2007.05.30 |
| 申请号 | CN03146374.6 | 申请日期 | 2003.07.10 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 黄则尧;陈逸男;蔡子敬 |
| 分类号 | H01L21/8242(2006.01);H01L21/70(2006.01) | 主分类号 | H01L21/8242(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王一斌 |
| 主权项 | 1.一种沟槽的制造方法，包括下列步骤：提供一基底；形成一垫层结构于该基底表面；形成一第一硬掩模层于该垫层结构上；形成一图案化的第二硬掩模层于该第一硬掩模层上，并露出部分的该第一硬掩模层表面以构成一第一开口；形成一间隔层于上述第一开口侧壁以构成一开口比第一开口要小的第二开口；形成一第三硬掩模层以填满该第二开口；去除该间隔层，并以该第二硬掩模层与该第三硬掩模层作为蚀刻掩模蚀刻该第一硬掩模层，形成一具有一第一硬掩模层突出部分的第三开口；去除该第二硬掩模层与该第三硬掩模层；以及蚀刻该第一硬掩模层、该第一硬掩模层突出部分、该垫层结构及该基底，以在该基底中形成一中间具有突出部分的沟槽，该中间突出部分的上表面低于基底的上表面。 | ||
| 地址 | 台湾省桃园县 | ||