| 发明名称 | 有机膜组合物和抗蚀剂图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种有机膜组合物以及抗蚀剂图案形成方法，所述有机膜组合物为下层用有机膜组合物，该组合物在2层光致抗蚀剂处理中能够形成优异的侧凹形状而不会产生上层抗蚀剂和下层膜的混杂层，实用性较高。更详细地说，本发明提供下述的下层有机膜组合物以及使用该下层有机膜组合物的抗蚀剂图案形成方法，所述下层有机膜组合物用于在基板上形成具有侧凹形状的抗蚀剂图案，所述抗蚀剂图案是通过使形成于基板上的下层有机膜和上层正型光致抗蚀剂膜这2层有机膜隔着掩模进行曝光并显影而形成的，其中，所述组合物含有碱可溶性树脂(A)和溶剂(B)，所述碱可溶性树脂(A)是通过使下述(A1)的酚成分与(A2)的醛成分进行缩合而成的，所述(A1)的酚成分为3－甲基苯酚和4－甲基苯酚的混合物，所述(A2)的醛成分含有芳香族醛和甲醛。 | ||
| 申请公布号 | CN1973245A | 申请公布日期 | 2007.05.30 |
| 申请号 | CN200580020810.2 | 申请日期 | 2005.06.21 |
| 申请人 | 长濑化成株式会社 | 发明人 | 池崎洋次;山田达也;西岛佳孝 |
| 分类号 | G03F7/023(2006.01);G03F7/022(2006.01);G03F7/26(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/023(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰;赵冬梅 |
| 主权项 | 1.一种有机膜组合物，其为用于下层有机膜的组合物，该组合物用于在基板上形成具有侧凹形状的抗蚀剂图案，所述抗蚀剂图案是通过使形成于基板上的下层有机膜和上层正型光致抗蚀剂膜这2层有机膜隔着掩模进行曝光并显影而形成的，该组合物的特征在于，其含有碱可溶性树脂(A)和溶剂(B)，所述碱可溶性树脂(A)是通过使下述(A1)的酚成分与(A2)的醛成分进行缩合而成的，所述(A1)的酚成分为3-甲基苯酚和4-甲基苯酚的混合物，所述(A2)的醛成分含有芳香族醛和甲醛。 | ||
| 地址 | 日本大阪 | ||