发明名称 微镜的铰链和镜片之间的空间减小了的微镜
摘要 公开了包括微镜器件阵列的一种空间光调制器,以及这种空间光调制器的制造方法。对应于所使用的光源确定相邻微镜器件之间的中心到中心距离和间隙,以便使光学效率和性能最高。该微镜器件包括形成在基板上的铰链支架,以及由铰链支架支撑的铰链。镜片通过触点与铰链连接,并且根据镜片所需的最大旋转角度、相邻微镜之间的最佳间隙和间距来确定镜片与铰链之间的距离。在这种空间光调制器的制造方法中,将一个牺牲层沉积到基板上,之后形成镜片,并将另一牺牲层沉积到镜片上,随后形成铰链支架。用自发气相化学蚀刻剂通过相邻反射镜器件之间的小间隙,去除两个牺牲层。此外,还公开了一种投影系统,它包括这种空间光调制器以及光源、聚光光学装置,其中光源发出的光被聚焦到微镜阵列上,还包括将微镜阵列有选择反射的光投射到靶上的投影光学装置,以及用于有选择地驱动阵列中微镜的控制器。
申请公布号 CN1973235A 申请公布日期 2007.05.30
申请号 CN200480027577.6 申请日期 2004.07.19
申请人 反射公司 发明人 萨迪亚德夫·R·帕特尔;安德鲁·G·胡伊伯斯
分类号 G02B26/00(2006.01);G02B26/08(2006.01);G02F1/29(2006.01) 主分类号 G02B26/00(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 王英
主权项 1、一种方法,包括:在基板上沉积两个牺牲层;在所述两个牺牲层之一上形成镜片阵列;在所述两个牺牲层中的另一牺牲层上为每个镜片形成铰链,其中所述镜片与所述铰链之间的牺牲层为0.15到0.45微米;以及使用自发气相化学蚀刻剂去除这两个牺牲层之一或两者的至少一部分。
地址 美国加利福尼亚州
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