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Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden von mindestens einer Schicht auf einem Substrat mit einem oder mehreren Suszeptoren (7) zur Substrataufnahme, mit einem drehantreibbaren Substrathalter (6), der den Boden einer Prozesskammer (2) bildet, mit einer unterhalb des Suszeptorhalters (6) angeordneten RF-Heizung (22) und einem Gaseinlassorgan (4) zum Einleiten von Prozessgasen in die Prozesskammer. Um die gattungsgemäße Vorrichtung herstellungstechnisch und gebrauchsvorteilhaft weiterzubilden, wird vorgeschlagen, dass der Suszeptorhalter (6) gleitend auf einer im Wesentlichen IR- und/oder RF-durchlässigen Auflageplatte (14) liegt.
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