发明名称 Anordnung zur Unterdrückung von unerwünschten Spektralanteilen bei einer plasmabasierten EUV-Strahlungsquelle
摘要 Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Unterdrückung von unerwünschten Spektralanteilen (sogenannter 'Out-of-Band'-Strahlung) bei einer plasmabasierten Strahlungsquelle. DOLLAR A Die Aufgabe, eine neue Möglichkeit zur Unterdrückung von unerwünschten Spektralanteilen in aus einer plasmabasierten EUV-Strahlungsquelle austretender Strahlung zu finden, die eine einfache Unterdrückung von 'Out-of-Band'-Strahlung außerhalb des gewünschten EUV-Bereiches ohne aufwendige Fertigung und Justierung von Beugungsgittern gestattet, wird erfindungsgemäß gelöst, indem zwischen Plasma und Anwendungsort der EUV-Strahlung eine Filtereinheit mit mindestens einem Gasvorhang aus wenigstens einem schnell strömenden Gas, dessen Moleküle für die gewünschte EUV-Strahlung keine und für andere emittierte unerwünschte Wellenlängen, mindestens aber im IR-Bereich, intensive Absorptionsmaxima aufweisen, vorhanden ist, wobei zur Erzeugung des Gasvorhangs mindestens eine Spaltdüse und eine leistungsfähige Gassenke einander lateral bezüglich einer optischen Achse des Strahlenbündels gegenüberliegend angeordnet sind, um den Gasvorhang räumlich definiert zu begrenzen und möglichst vollständig wieder aus der Vakuumkammer zu entfernen.
申请公布号 DE102005048670(B3) 申请公布日期 2007.05.24
申请号 DE200510048670 申请日期 2005.10.07
申请人 XTREME TECHNOLOGIES GMBH 发明人 BRUIJN, RENE DE;TRAN, CHINH DUC;MADER, BJOERN;BRUDERMANN, JESKO;KLEINSCHMIDT, JUERGEN
分类号 H05G2/00;G21K3/00 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
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