发明名称 Self-aligned etching process to realize word lines of semiconductor integrated memory devices
摘要
申请公布号 EP0851485(B1) 申请公布日期 2007.05.23
申请号 EP19960830649 申请日期 1996.12.24
申请人 STMICROELECTRONICS S.R.L. 发明人 CAMERLENGHI, EMILIO;COLABELLA, ELIO;PIVIDORI, LUCA;REBORA, ADRIANA
分类号 H01L21/8247;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213;H01L21/768;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
主权项
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