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经营范围
发明名称
METHOD OF FORMING SILICON DIOXIDE FILM AND SYSTEM FOR CARRYING OUT THE SAME
摘要
申请公布号
KR100720777(B1)
申请公布日期
2007.05.23
申请号
KR20060104499
申请日期
2006.10.26
申请人
发明人
分类号
H01L21/205;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/318
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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