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发明名称 MEGASONIC IMMERSION LITHOGRAPHY EXPOSURE APPARATUS AND METHOD
摘要
申请公布号 KR20070052880(A) 申请公布日期 2007.05.23
申请号 KR20050110654 申请日期 2005.11.18
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 CHANG CHING YU;LIN CHIEN HUNG;LIN CHIN HSIANG;LU DING CHUNG;LIN BURN JENG
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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