用表面活化剂改善L1<SUB>0</SUB>－FePt薄膜性能的方法

摘要

本发明提供了一种用表面活化剂改善L1₀-FePt薄膜性能的方法，属于高密度磁记录材料技术领域。在磁控溅射仪中，在清洗干净的玻璃基片沉积Bi和FePt，其特征在于，沉积的顺序依次为150～500铋Bi和100～500铁铂FePt；溅射室本底真空度为1×10^-5～7×10^-5Pa，溅射时氩气压为0.4～0.6Pa，基片保持室温；退火时本底真空度为2×10^-5～7×10^-5Pa。本发明的优点在于：大幅度地提高了退火后薄膜的平行膜面矫顽力。此外由于薄膜只采用双层结构，且厚度均较小，同时在制备过程中没有采用基片加热等复杂性工艺，所以它还具有成本低，制备简单等优点，适用于未来的生产。

主权项

1、一种用表面活化剂改善L1₀-FePt薄膜性能的方法，在磁控溅射 仪中，在清洗干净的玻璃基片沉积Bi和FePt，其特征在于，沉积的顺 序依次为150～500铋Bi和100～500铁铂FePt；溅射室本底真空度 为1×10^-5～7×10^-5Pa，溅射时氩气压为0.4～0.6Pa，基片保持室温；退 火时本底真空度为2×10^-5～7×10^-5Pa，使FePt薄膜的有序化温度降低 到350℃。