| 发明名称 | 用于去除光刻胶的组合物及利用该组合物形成图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种形成图案的方法，该方法利用了用于去除光刻胶的组合物，在该方法中，在基板上形成层，然后在该层上形成光刻胶图案。利用光刻胶图案作为蚀刻掩膜，对从光刻胶图案露出的层的一部分进行蚀刻，以在基板上形成图案。然后，利用包括羟胺、链烷醇胺化合物、吗啉化合物、极性溶剂、防腐剂、和水的组合物去除光刻胶图案。该组合物可以在不损坏基板和/或包括金属、氮化物、氧化物和/或金属氮化物的图案的情况下，有效地去除光刻胶图案和蚀刻残余物。 | ||
| 申请公布号 | CN1967388A | 申请公布日期 | 2007.05.23 |
| 申请号 | CN200610149823.6 | 申请日期 | 2006.10.25 |
| 申请人 | 拉姆科技有限公司 | 发明人 | 吉埈仍;李锡浩;金敬喜;徐熙;具本旺;金旼永 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/42(2006.01) |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余刚 |
| 主权项 | 1.一种用于去除光刻胶的组合物，包括：羟胺；链烷醇胺化合物；吗啉化合物；极性溶剂；防腐剂；以及水。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||