| 主权项 |
1.一种曝光装置,系可于一光罩移动之过程中,将形 成于该光罩上之一图案曝光于一感光基板上,此装 置包括: 一挠曲修正装置,可对该光罩相对地移动,且与该 光罩对向并保持一定的间隔,用以修正该光罩之挠 曲;以及 一驱动手段,对应该光罩之移动而改变该挠曲修正 装置之进行该光罩修正的位置。 2.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中该挠 曲修正装置系配置于与该图案之面成对向且与该 光罩之面成对向的位置上。 3.如申请专利范围第2项所述之曝光装置,其中该挠 曲修正装置系配置于与该图案进行曝光之区域相 邻接且与该光罩之面成对向的位置上。 4.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中该挠 曲修正装置系对应该光罩之挠曲而调整吸引该光 罩之一吸引力。 5.如申请专利范围第2项所述之曝光装置,其中该挠 曲修正装置系具有复数个吸引部,且该些吸引部系 沿着与该图案进行曝光之区域配置。 6.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中该些 吸引部之吸引力系可对应吸引该光罩之位置而调 整。 7.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中该挠 曲修正装置系可对应该光罩之厚度而变更吸引力 。 8.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中于该 挠曲修正装置与该光罩之对向面之间系具有由一 排气所供应之一空气所形成之一静压气体轴承。 9.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中该曝 光装置系具有复数个投影光学组件,该些投影光学 组件系可将该光罩之该图案投影于该感光基板上, 且该挠曲修正装置系配置与藉由该些投影光学组 件进行曝光之该图案之间之该光罩之面成对向。 10.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中该 挠曲修正装置包括: 一驱动机构,将与该光罩成对向之面朝与该光罩之 该图案面垂直相交的方向上驱动;以及 一测量机构,测量该光罩之挠曲量。 11.如申请专利范围第4项所述之曝光装置,其中该 些吸引部之吸引力系可对应吸引该光罩之位置而 调整。 12.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中该 挠曲修正装置系可对应该光罩之厚度而变更吸引 力。 13.如申请专利范围第3项所述之曝光装置,其中于 该挠曲修正装置与该光罩之对向面之间系具有由 一排气所供应之一空气所形成之一静压气体轴承 。 14.如申请专利范围第5项所述之曝光装置,其中于 该挠曲修正装置与该光罩之对向面之间系具有由 一排气所供应之一空气所形成之一静压气体轴承 。 15.如申请专利范围第3项所述之曝光装置,其中该 曝光装置系具有复数个投影光学组件,该些投影光 学组件系可将该光罩之该图案投影于该感光基板 上,且该挠曲修正装置系配置与藉由该些投影光学 组件进行曝光之该图案之间之该光罩之面成对向 。 16.如申请专利范围第5项所述之曝光装置,其中该 曝光装置系具有复数个投影光学组件,该些投影光 学组件系可将该光罩之该图案投影于该感光基板 上,且该挠曲修正装置系配置与藉由该些投影光学 组件进行曝光之该图案之间之该光罩之面成对向 。 17.如申请专利范围第5项所述之曝光装置,其中该 挠曲修正装置包括: 一驱动机构,将与该光罩成对向之面朝与该光罩之 该图案面垂直相交的方向上驱动;以及 一测量机构,测量该光罩之挠曲量。 18.一种曝光装置,系可于一光罩移动之过程中,将 形成于该光罩上之一图案曝光于一感光基板上,此 装置包括: 复数个挠曲修正装置,可对该光罩相对地移动,且 与该光罩对向并保持一定的间隔,用以修正该光罩 之挠曲。 19.如申请专利范围第18项所述之曝光装置,其中该 些挠曲修正装置系可对应与该光罩相对的位置而 进行一修正量的调整。 20.如申请专利范围第19项所述之曝光装置,其中该 些挠曲修正装置之该修正量系以利用一测量手段 测量该光罩之移动位置所得之一测量値为基准,进 行该修正量之控制。 21.如申请专利范围第18项所述之曝光装置,其中该 些挠曲修正装置系对该光罩吸引以进行修正,该些 挠曲修正装置对该光罩进行吸引之吸引力的控制 系由挠曲修正量所控制。 22.如申请专利范围第18项所述之曝光装置,其中该 些挠曲修正装置系设置于该光罩之进行曝光的一 曝光区域之扫描方向上的前后至少一边。 图式简单说明: 第1图所示系为本发明之一较佳实施例的曝光装置 于部分截断状态下的正视图。 第2图所示系为第1图之A-A线剖面图。 第3图所示系为第1图之左侧面图。 第4图所示系为照明光学系统之概略结构的斜视图 。 第5图所示系为投影光学系统之概略结构图。 第6A图至第6B图所示系为一个的吸引垫的剖面图。 第7图所示系为9个吸引垫的配管图。 第8A图所示在光罩中心线上对吸引垫之吸引力之 调整之变化的一实例的说明图。 第8B图所示系自光罩之中心线起对吸引垫之吸引 力之调整之变化的一实例的说明图。 第8C图所示系为吸引垫之吸引力之变化的缓和曲 线的一实例的说明图。 第9图所示系为对吸引垫之吸引力之调整之变化的 其他实例的说明图。 第10图所示系为习知之曝光装置之光罩变形的说 明图。 |
