| 主权项 |
1.一种光学器件之眼幅调整机构,系装设于包含双 镜筒及设于双镜筒间之支架的光学器件上,其包括 滑轨、以可滑动方式与所述滑轨相组合的滑块及 阻滞装置,其中所述滑轨系固接于光学器件之支架 上,所述滑块系分别固接于支架两侧之镜筒上并可 相对于滑轨滑移,带动两侧镜筒相对沿线性方向滑 移而改变二者之间距,所述阻滞装置系提供一作用 力作用于所述滑轨与滑块之间,而调整所述滑块与 滑轨间之磨擦力,以阻滞所述滑轨与滑块间相对之 滑移运动。 2.如申请专利范围第1项所述之光学器件之眼幅调 整机构,其中所述阻滞装置系靠接于所述滑轨上的 一磨擦块,通过对该磨擦块施加压力而增加滑块与 滑轨二者间的磨擦力,以阻滞镜筒之滑移并固定眼 幅。 3.如申请专利范围第1项所述之光学器件之眼幅调 整机构,其中所述阻滞装置系包含设置于所述滑轨 旁侧之磁铁及遮挡于所述磁铁与滑轨之间的可动 式遮断件。 4.如申请专利范围第3项所述之光学器件之眼幅调 整机构,其中所述阻滞装置之遮断件系可相对于所 述磁铁线性移动而改变磁铁与滑轨间之磁力接触 面积,藉以调整滑轨所受磁力的大小,增加滑块与 滑轨二者间之磨擦力,以阻滞镜筒滑移,固定眼幅 。 5.如申请专利范围第3项所述之光学器件之眼幅调 整机构,其中所述阻滞装置之遮断件系可相对于所 述磁铁转动而改变磁铁与滑轨间之磁力接触面积, 藉以调整滑轨所受磁力的大小,增加滑块相对滑轨 滑动时二者间之磨擦力,以阻滞镜筒滑移,固定眼 幅。 6.如申请专利范围第4或5项所述之光学器件之眼幅 调整机构,其中所述磁铁为一强力型磁铁块。 7.如申请专利范围第6项所述之光学器件之眼幅调 整机构,其中所述遮断件是由可遮断磁力线之材质 制造。 8.如申请专利范围第1项所述之光学器件之眼幅调 整机构,其中所述滑轨包含位于中间之装配部及位 于装配部两端之轨道部。 9.如申请专利范围第8项所述之光学器件之眼幅调 整机构,其中所述装配部上开设有固定孔以与螺丝 相配合将滑轨固接至光学器件的支架上。 10.如申请专利范围第9项所述之光学器件之眼幅调 整机构,其中所述滑轨之装配部之底部分别向两端 延伸出一对圆柱形导柱,轨道部之两侧表面开设有 导槽。 11.如申请专利范围第10项所述之光学器件之眼幅 调整机构,其中所述滑块大体为「凹」字形块状体 ,其包含中部之凹槽及位于凹槽两侧之侧壁部。 12.如申请专利范围第11项所述之光学器件之眼幅 调整机构,其中所述凹槽之底表面对应所述滑轨之 导柱开设滑槽。 13.如申请专利范围第12项所述之光学器件之眼幅 调整机构,其中所述滑块之侧壁部内侧为内凹构形 ,其中容纳有一调整块。 14.如申请专利范围第13项所述之光学器件之眼幅 调整机构,其中所述滑块之侧壁部上设有若干扭力 固定螺丝,所述扭力固定螺丝系穿入所述侧壁部且 其末端与所述调整块相抵触。 15.如申请专利范围第14项所述之光学器件之眼幅 调整机构,其中所述滑块之侧壁部及调整块之内壁 分别开设卡槽,且所述卡槽之上、下两侧分别设置 有滑杆。 16.如申请专利范围第15项所述之光学器件之眼幅 调整机构,其中所述滑块之卡槽与滑轨之导槽之间 系设置若干滚珠,该等滚珠系定位于设有相应珠孔 之定位片上。 17.如申请专利范围第16项所述之光学器件之眼幅 调整机构,其中所述滚珠一侧系与卡槽内的滑杆相 抵触配合,另一侧则与滑轨之导槽相抵触配合。 18.一种双筒型光学器件之眼幅调整机构,包括有滑 轨、以可滑动方式与该滑轨相组合之滑块及阻滞 装置,其中所述滑轨系固接于光学器件的一个镜筒 上,所述滑块系固接于另一镜筒上,所述滑块与滑 轨相对滑动而使所述二镜筒沿线性方向相对滑移 而改变二者之间距,所述阻滞装置系提供一作用力 于所述滑轨与滑块之间,调整滑块与滑轨相对滑动 时二者间之磨擦力,进而阻滞所述滑轨与滑块之相 对滑移运动。 19.如申请专利范围第18项所述之双筒型光学器件 之眼幅调整机构,其中所述阻滞装置系固接于所述 滑轨上的一磨擦块,通过对该磨擦块施加压力而增 加滑块相对滑轨滑动时的磨擦力,以阻滞镜筒之滑 移并固定眼幅。 20.如申请专利范围第18项所述之双筒型光学器件 之眼幅调整机构,其中所述阻滞装置系包含设置于 所述滑轨旁侧之磁铁及遮挡于所述磁铁与滑轨之 间的可动式遮断件。 21.如申请专利范围第20项所述之双筒型光学器件 之眼幅调整机构,其中所述阻滞装置之遮断件系可 相对于所述磁铁线性移动而改变磁铁与滑轨间之 磁力接触面积,藉以调整滑轨所受磁力的大小,增 加滑块相对滑轨滑动时二者间之磨擦力,以阻滞镜 筒滑移,固定眼幅。 22.如申请专利范围第20项所述之双筒型光学器件 之眼幅调整机构,其中所述阻滞装置之遮断件系可 相对于所述磁铁转动而改变磁铁与滑轨间之磁力 接触面积,藉以调整滑轨所受磁力的大小,增加滑 块相对滑轨滑动时二者间之磨擦力,以阻滞镜筒滑 移,固定眼幅。 23.如申请专利范围第21或22项所述之双筒型光学器 件之眼幅调整机构,其中所述磁铁为一强力型磁铁 块。 24.如申请专利范围第23项所述之双筒型光学器件 之眼幅调整机构,其中所述遮断件是由可遮断磁力 线之材质制造。 图式简单说明: 第一图是本发明光学器件之眼幅调整机构第一实 施方式的俯视图。 第二图是本发明光学器件之眼幅调整机构第一实 施方式的正视图。 第三图是本发明光学器件之眼幅调整机构第一实 施方式的侧视图。 第四图是本发明光学器件之眼幅调整机构第二实 施方式的侧视图。 第五图是本发明光学器件之眼幅调整机构第二实 施方式的正视图。 |
