| 主权项 |
1.一种氧化铈系研磨材,以氧化铈为主成份,且研磨 材粒子平均粒径为0.2 ~3.0m, 其特征在于: 粒径10m以上之粗粒子浓度为1000ppm(重量比)以下 。 2.如申请专利范围第1项之氧化铈系研磨材,其中粒 径10m以上之粗粒子浓度为300ppm以下。 3.一种氧化铈系研磨材,以氧化铈为主成份,且研磨 材粒子之平均粒径为0.2~3.0m, 其特征在于: 磁性粒子浓度为1000ppm以下(重量比)。 4.如申请专利范围第3项之氧化铈系研磨材,其中粒 径10m以上之磁性粒子浓度为300ppm以下。 5.如申请专利范围第1、2、3或4项之氧化铈系研磨 材,其中研磨材粒子之比表面积平均値为0.5~30m2/g 。 6.一种氧化铈系研磨材之制造方法,包括: 将研磨材原料与分散媒混合成为泥状物之制程; 将该泥状物以湿式粉碎机处理以使该研磨材原料 进行湿式粉碎之制程; 将粉碎后之研磨材原料过滤及乾燥后进行焙烧之 制程;以及 将焙烧后之研磨材原料以乾式粉碎后进行分级处 理之制程, 其特征在于: 将分级点控制于0.5~15m之范围内进行分级处理。 7.如申请专利范围第6项之铈系研磨材之制造方法, 其中包括将分级处理后之研磨材至少重覆1次分级 之制程。 8.一种氧化铈系研磨材之制造方法,包括: 将研磨材原料与分散媒混合成为泥状物之制程; 将该泥状物以湿式粉碎机处理以使该研磨材原料 进行湿式粉碎之制程; 将粉碎后之研磨材原料过滤及乾燥后进行焙烧之 制程;以及 将焙烧后之研磨材原料以乾式粉碎后进行分级处 理之制程, 其特征在于: 包括使以湿式粉碎机处理之泥状物通过由激磁而 磁化的磁性材料过滤器的制程。 9.如申请专利范围第8项之氧化铈系研磨材之制造 方法,其中将磁性材料形成之过滤器磁化为磁通密 度在0. 1 ~2.0T范围内并使泥状物通过。 10.一种氧化铈系研磨材之制造方法,包括: 将研磨材原料与分散媒混合成为泥状物之制程; 将该泥状物以湿式粉碎机处理以使该研磨材原料 进行湿式粉碎之制程; 将粉碎后之研磨材原料过滤及乾燥后进行焙烧之 制程;以及 将焙烧后之研磨材原料以乾式粉碎后进行分级处 理之制程, 其特征在于: 以由非磁性材料形成之粉碎媒体作为湿式粉碎机 中充填之粉碎媒体,并将研磨材进行湿式粉碎。 11.如申请专利范围第10项之氧化铈系研磨材之制 造方法,其中使用氧化锆或氧化铝作为构成粉碎媒 体之非磁性材料。 12.一种氧化铈系研磨材之制造方法,包括: 将研磨材原料与分散媒混合成为泥状物之制程; 将该泥状物以湿式粉碎机处理以使该研磨材原料 进行湿式粉碎之制程; 将粉碎后之研磨材原料过滤及乾燥后进行焙烧之 制程;以及 将焙烧后之研磨材原料以乾式粉碎后进行分级处 理之制程, 其特征在于: 包括将焙烧后之研磨材原料通过由磁化之磁性材 料形成之管状体、板状体、棒状体附近之制程。 13.如申请专利范围第12项之氧化铈系研磨材之制 造方法,其中将磁性材料形成之管状体、板状体、 棒状体磁化为磁通密度在0.1~2.0T之范围并使泥状 物通过。 图式简单说明: 图1系表示先前铈系研磨材制造之制程。 图2系表示以雷射光绕射法测定之第1实施形态之 铈系研磨材之粒径分布图。 图3系表示本实施形态之粗粒子浓度分析法之制程 。 图4系表示本实施形态之磁性粒子浓度分析法之制 程。 图5系在第2~第4实施形态中使用之磁性过滤器之构 造概略图。 图6系第3实施形态中使用之磁性箱之概略图。 |
