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1.一种使用图形使用者介面(GUI)以设定一动态感应 器于半导体处理环境中的方法,此方法包含: 执行一资料收集计画; 使用资料收集计画,以决定一动态感应器设定计画 ; 执行动态感应器设定计画,以设定动态感应器;及 使用一选择GUI萤幕上之多阶导引树状物,以选择资 料收集计画。 2.如申请专利范围第1项之方法,进一步包含: 使用一计画表列GUI萤幕,以决定资料收集计画;及 使用一计画GUI萤幕,以决定动态感应器计画之一选 定的动态感应器实例。 3.如申请专利范围第2项之方法,进一步包含: 从计画GUI萤幕上之感应器实例表列,选择一动态感 应器实例;及 加入选定的动态感应器实例至此计画表列之选定 的实例。 4.如申请专利范围第2项之方法,进一步包含: 从计画GUI萤幕上之此计画表列的选定实例,选择一 动态感应器实例;及 从此计画表列之选定实例移动选定的动态感应器 实例至感应器实例表列。 5.如申请专利范围第1项之方法,其中多阶导引树状 物包含一工具阶、一模组阶、一策略阶、一上下 文阶、及一资料收集计画阶。 6.如申请专利范围第5项之方法,其中策略阶包含一 控制策略阶及一分析策略阶。 7.如申请专利范围第1项之方法,其中选择GUI萤幕包 含至少一来自包括英语多阶导引树状物、日语多 阶导引树状物、中国台湾语言多阶导引树状物、中国 语言多阶导引树状物、韩语多阶导引树状物、德 语多阶导引树状物、及法语多阶导引树状物之族 群的多阶导引树状物。 8.如申请专利范围第1项之方法,其中选择GUI萤幕包 含一标题面板、一资讯面板、及一控制面板。 9.如申请专利范围第8项之方法,其中标题面板包含 :一公司商标区块,以显示版本资讯;一使用者ID区 块,以显示目前使用者之ID;一警示讯息区块,以于 当有一作用中之警示时显示一警示讯息;一目前日 期及时间区块,以显示伺服器之目前日期与时间; 一目前萤幕名称区块,以显示目前萤幕之名称;一 通讯状态区块,以显示介于伺服器与工具间之通讯 连结的目前状态;一工具ID区块,以显示正被监视之 工具的ID;一登出区块,以容许使用者登出;及一选 择萤幕区块,以观看所有可得萤幕之一表列。 10.如申请专利范围第8项之方法,其中控制面板包 含一工具状态按钮、一模组按钮、一图表按钮、 一警示按钮、一SPC按钮、一控制设定按钮、及一 求助按钮。 11.如申请专利范围第2项之方法,进一步使用一计 画表列GUI萤幕以决定收集计画,此计画表列GUI萤幕 包含至少一来自包括英语萤幕、日语萤幕、中国台湾 语言萤幕、中国语言萤幕、韩语萤幕、德语萤幕 、及法语萤幕之族群的萤幕。 12.如申请专利范围第1项之方法,其中GUI包含至少 一萤幕,其含有来自包括左至右栏标、右至左栏标 、顶部至底部栏标、及底部至顶部栏标之族群的 选择栏标。 13.如申请专利范围第2项之方法,进一步包含: 使用计画表列GUI萤幕上之一选择栏标,以选择资料 收集计画。 14.如申请专利范围第2项之方法,进一步包含使用 一感应器设定GUI萤幕,以决定其选定的动态感应器 实例之至少一设定参数。 15.如申请专利范围第14项之方法,进一步包含: 选择计画GUI萤幕上之一动态感应器实例; 触发计画GUI萤幕之一部分,以启动一感应器设定GUI 萤幕;及 验证选定的动态感应器实例之设定项目。 16.如申请专利范围第14项之方法,进一步包含: 选择计画GUI萤幕上之一动态感应器实例; 触发计画GUI萤幕之一部分,以启动一参数储存萤幕 ;及 验证该参数正被储存。 17.如申请专利范围第15项之方法,进一步包含: 选择感应器设定GUI萤幕上之一动态参数; 触发感应器设定GUI萤幕之一部分,以启动一感应器 设定项目GUI萤幕;及 验证选定的动态参数之选定项目。 18.如申请专利范围第17项之方法,进一步包含: 从感应器设定项目GUI萤幕上之项目表列选择一项 目;及 加入选定项目至选定动态感应器之选定项目表列 。 19.如申请专利范围第17项之方法,进一步包含: 从感应器设定项目GUI萤幕上之选定动态感应器的 选定项目表列选择一项目;及 从选定动态感应器之选定项目表列移除选定项目 。 20.如申请专利范围第17项之方法,进一步包含: 从感应器设定项目GUI萤幕上之动态参数的多数値 栏位选择一値栏位; 修改选定的値栏位;及 储存修改的动态参数。 21.如申请专利范围第2项之方法,进一步包含: 启动一参数储存萤幕;及 验证其正确的动态参数正被储存。 22.如申请专利范围第2项之方法,进一步包含: 启动一参数收集资讯萤幕;及 验证其用于被储存动态参数之资料收集型式是正 确的。 23.如申请专利范围第2项之方法,进一步包含: 启动一公式资讯萤幕; 键入新的参数名称;及 使用其包含选定感应器实例之设定参数的至少一 値之公式,以产生新的动态参数。 24.如申请专利范围第1项之方法,进一步包含执行 一控制策略,以决定资料收集计画。 25.如申请专利范围第24项之方法,进一步包含使用 制程上下文以决定控制策略,制程上下文系取决于 至少一执行中制程、一动态感应器实例、一监视 中处理模组、及一监视中工具之一。 图式简单说明: 图1显示一种先进制程控制(APC)半导体制造系统之 一简化方块图,依据本发明之一实施例; 图2显示一用以监视半导体处理系统中之处理工具 的流程图之简化图示,依据本发明之一实施例; 图3显示策略与计画之间的示范关系图1依据本发 明之一实施例; 图4显示策略与计画之间的示范流程图,依据本发 明之一实施例; 图5显示依据本发明之一实施例的选择萤幕之一示 范图示; 图6显示依据本发明之一实施例的资料收集计画资 讯萤幕之一示范图示; 图7显示依据本发明之一实施例的感应器设定萤幕 之一示范图示; 图8显示依据本发明之一实施例的资料收集计画之 次萤幕的示范图示,此资料收集计画系界定一RF谐 波为基础之感应器的感应器设定; 图9显示依据本发明之一实施例的一感应器设定项 目萤幕之另一暴露时间次萤幕的一示范图示; 图10显示依据本发明之一实施例的参数储存萤幕 之一示范图示; 图11显示依据本发明之一实施例的公式资讯萤幕 之一示范图示;及 图12显示依据本发明之一实施例的参数收集资讯 萤幕之一示范图示,此参数收集资讯萤幕系用于使 用处理程式设定点之动态过滤。 |
