| 主权项 |
1.一种光触媒水处理载体之制法,包括: a.前处理程序:将沸石、分子筛、陶瓷、矽胶等多 孔材料或玻璃载体,在时间20秒至30分钟,操作温度 10℃~90℃下,经适当的表面前处理程序,以达到表面 性质改善及提高表面粗糙度,提高二氧化钛光触媒 溶胶粒子的吸附性; b.吸附程序:将处理完成的载体浸泡于含量为0.1%~30 %,粒径为0.002m~0.100m,比表面积为10~500m2/g的二 氧化钛溶胶溶液中,在适当的操作条件下将二氧化 钛奈米粒子以喷涂或在常温下浸泡3~60分钟的方式 吸附于载体之上; c.后处理程序:将吸附完成的载体以100℃~300℃,烘 烤30分钟至8小时,于载体表面形成吸附良好的二氧 化钛吸附层,以确保二氧化钛奈米粒子吸附力。 2.如申请专利范围第1项所述之光触媒水处理载体 之制法,其中前处理程序包含括清洁及处理两部份 : a.清洁部份:以界面活性剂配合酸、硷度的调整,以 去除油污; b.处理部分:系在适当的水溶液中加入必要的盐类 或氧化剂,配合操作条件,以达到表面性质改善及 提高表面粗糙度。所述的盐类包括氯化钠、氯化 铵、硫酸钠、硫酸、磷酸、盐酸、氢氧化钠、硝 酸钠、硝酸钾及亚硝酸钠、亚硫酸钠,其添加的浓 度为0.1~300克/升;所述的氧化剂为双氧水、硝酸钠 、高锰酸钾或过氯酸。 |
