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发明名称 CELL STRUCTURE FOR ADAPTING A PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS IN A SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATING
摘要
申请公布号 KR20070052098(A) 申请公布日期 2007.05.21
申请号 KR20050109728 申请日期 2005.11.16
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 CHOI, YEON DONG;LEE, JUNG HYEON;LEE, DAE YOUP;LEE, JEONG HOON
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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