CLEANING LIQUID FOR CLEANING APPARATUS FOR SUPPLYING CHEMICAL SOLUTIONS IN THE PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR,申请号KR20060112539-传众专利搜索

发明名称	CLEANING LIQUID FOR CLEANING APPARATUS FOR SUPPLYING CHEMICAL SOLUTIONS IN THE PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号	KR20070052205(A)	申请公布日期	2007.05.21
申请号	KR20060112539	申请日期	2006.11.15
申请人	TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.	发明人	YOSHIDA MASAAKI;WAKIYA KAZUMASA
分类号	H01L21/304	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
主权项
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