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发明名称
Half-tone type phase shift blank mask and manufacturing method of the same
摘要
申请公布号
KR100720334(B1)
申请公布日期
2007.05.21
申请号
KR20060043600
申请日期
2006.05.15
申请人
发明人
分类号
G03F1/32;G03F1/26
主分类号
G03F1/32
代理机构
代理人
主权项
地址
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