发明名称 Half-tone type phase shift blank mask and manufacturing method of the same
摘要
申请公布号 KR100720334(B1) 申请公布日期 2007.05.21
申请号 KR20060043600 申请日期 2006.05.15
申请人 发明人
分类号 G03F1/32;G03F1/26 主分类号 G03F1/32
代理机构 代理人
主权项
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