可挠式基板的覆膜形成方法及其系统

摘要

本发明提供一种可挠式基板的覆膜形成方法，在卷绕于滚子上的可挠式基板的表面上连续、高速且高品质地形成光刻胶膜。在卷绕滚子6上所卷绕的可挠式基板7，以一定的速度从卷绕单元3送出，并以张力调节单元5形成一定的张力。将其在光刻胶液中利用涂敷单元9进行浸渍并涂敷。在对其吹喷热风并使光刻胶液由预乾燥单元11进行预乾燥后，发送到乾燥．冷却单元13并利用热风进行主乾燥。在主乾燥后，由冷却单元15冷却到常温。