用于移除厚膜光阻剂之组成物及方法

摘要

一种厚膜光阻剂及/或残余物移除组成物及方法，用来从具有厚膜光阻剂及/或残余物之一微电子总成移除其上之该厚膜光阻剂及/或后灰化与后蚀刻残余物。移除组成物包括至少一种有机酸，至少一种有机溶剂及水。组成物达成由微电子总成表面至少部分移除厚膜光阻剂及残余物，和最少蚀刻总成上的金属类别，且未损害总成架构中采用的低k介电材料。