发明名称 | 等离子体反应器线圈磁体系统 | ||
摘要 | 一种用于处理工件的方法,利用等离子体处理操作期间得自于存在于等离子体处置装置等离子体室内的处理气体的等离子体执行。该装置包括周向围绕等离子体室安装的电磁体阵列。该方法包括由室内的处理气体产生等离子体并使等离子体粒子撞击工件,为电磁体选择电流信号分布,和将每个所选择的分布提供给电磁体从而在等离子体处理操作期间在等离子体上施加多于一种的磁场布局。 | ||
申请公布号 | CN1316547C | 申请公布日期 | 2007.05.16 |
申请号 | CN02816257.9 | 申请日期 | 2002.09.04 |
申请人 | 东京电子株式会社 | 发明人 | 安德列·S·米特洛维奇 |
分类号 | H01J37/32(2006.01) | 主分类号 | H01J37/32(2006.01) |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
主权项 | 1.一种用等离子体处理工件的方法,该等离子体在等离子体处理操作期间得自于等离子体处理装置的等离子体室内的处理气体,该装置包括周向围绕等离子体室安装的电磁体阵列,该方法包括:由室内的处理气体产生等离子体并使等离子体粒子撞击工件;为所述电磁体选择电流信号分布;和在等离子体处理操作期间将每个所述选择分布施加到所述电磁体从而在等离子体上施加多个不同磁场布局中的至少一个磁场布局,以在多个不同磁场布局中的至少一个磁场布局中提供局部不均匀性,其中不同磁场布局中的至少一个磁场布局包括非旋转布局或者旋转布局。 | ||
地址 | 日本东京 |