| 发明名称 | 反射折射投影物镜 | ||
| 摘要 | 一种反射折射投影物镜，用于将布置在投影物镜的物面内的离轴有效物场成像至布置在所述投影物镜的像面内的离轴有效像场上，其包括：光轴；有效物场，完全位于所述光轴外部，沿第一方向具有长度A并沿与所述第一方向垂直的第二方向具有宽度B，使得包围所述有效物场的尺寸最小的圆形区域根据(I)定义所述有效物场的半径R<SUB>EOF</SUB>；圆形设计物场，以所述光轴为中心，具有设计物场半径R<SUB>DOF</SUB>，其中所述投影物镜在径向坐标小于R<SUB>DOF</SUB>的区域内基本上得到图像像差校正，且其中所述投影物镜在径向坐标大于R<SUB>DOF</SUB>的区域没有得到完全校正。下述条件：R<SUB>DOF</SUB>＝γR<SUB>EOF</SUB>且1≤γ＜1.4得以满足。采用紧凑设计可实现非常高的像侧数值孔径NA＞1。优选使用弓形有效物场。 | ||
| 申请公布号 | CN1965259A | 申请公布日期 | 2007.05.16 |
| 申请号 | CN200580018858.X | 申请日期 | 2005.04.07 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT股份公司 | 发明人 | A·埃普勒 |
| 分类号 | G02B17/08(2006.01);G02B17/06(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G02B17/08(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘红;魏军 |
| 主权项 | 1.一种反射折射投影物镜，用于将布置于投影物镜的物面内的离轴有效物场成像至布置于所述投影物镜的像面内的离轴有效像场上，其包括：光轴；有效物场，完全位于所述光轴外部，沿第一方向具有长度A，并沿与所述第一方向垂直的第二方向具有宽度B，使得包围所述有效物场的尺寸最小的圆形区域根据下式定义所述有效物场的半径REOF：<math> <mrow> <msub> <mi>R</mi> <mi>EOF</mi> </msub> <mo>=</mo> <msqrt> <msup> <mrow> <mo>(</mo> <mi>A</mi> <mo>/</mo> <mn>2</mn> <mo>)</mo> </mrow> <mn>2</mn> </msup> <mo>+</mo> <msup> <mrow> <mo>(</mo> <mi>B</mi> <mo>/</mo> <mn>2</mn> <mo>)</mo> </mrow> <mn>2</mn> </msup> </msqrt> <mo>;</mo> </mrow> </math> 以所述光轴为中心的圆形设计物场，具有设计物场半径RDOF，其中所述投影物镜在径向坐标小于RDOF的区域内基本上得到图像像差校正，且其中所述投影物镜在径向坐标大于RDOF的区域没有得到完全校正，其中满足下述条件：RDOF＝γREOF 且1≤γ＜1.4 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||