| 发明名称 | 光刻胶涂覆设备及光刻胶涂覆方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种TFT LCD光刻工艺中的光刻胶涂覆设备，包括：平台、光刻胶供给机构、喷嘴和喷嘴移动机构，其中喷嘴由光刻胶喷嘴和压缩空气喷嘴组成。且光刻胶喷嘴为多个，设置在喷嘴的中间位置或设置在喷嘴的两侧，或每个光刻胶喷嘴的周围包围多个压缩空气喷嘴。本发明同时公开了利用本发明的光刻胶涂敷设备涂敷光刻胶的方法。本发明由于在涂敷设备的喷嘴上同时提供了光刻胶喷嘴与压缩空气喷嘴的结构，进一步简化了制作工艺，节约了设备成本，此外，本发明提高了光刻胶涂覆的均匀性，大大降低了光刻胶的使用量，从而进一步提高了TFT LCD的制作效率和速度，降低了制作成本。 | ||
| 申请公布号 | CN1963671A | 申请公布日期 | 2007.05.16 |
| 申请号 | CN200610145216.2 | 申请日期 | 2006.11.17 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 周伟峰 |
| 分类号 | G03F7/16(2006.01);G02F1/1333(2006.01) | 主分类号 | G03F7/16(2006.01) |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘芳 |
| 主权项 | 1、一种TFT LCD光刻工艺中的光刻胶涂覆设备，包括：平台、光刻胶供给机构、喷嘴和喷嘴移动机构，其特征在于：所述喷嘴由光刻胶喷嘴和压缩空气喷嘴组成。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||