发明名称 |
高纯致密异型钨制品的制备方法 |
摘要 |
高纯致密异型钨制品的制备方法,属难熔金属加工领域。目前所用的钨制品均采用粉末冶金的方法制得,无法制备薄壁、复杂形状的钨制品。本发明以铜制作具有所需钨制品形状的仿体;将上述铜仿体表面用有机溶剂洗净、干燥后放入反应室内;以WF<SUB>6</SUB>和高纯H<SUB>2</SUB>为沉积反应气体;沉积反应在常压下进行;沉积反应温度在400℃~800℃,反应气体配比范围为:1L/min H<SUB>2</SUB>流量对应1-5g/min WF<SUB>6</SUB>通入量;控制沉积速度V≈0.5-2mm/h;沉积后关闭气体,继续通入H<SUB>2</SUB>冷却到室温、取出、切割打磨仿体后用硝酸溶解或加热熔化异型仿体。本发明生产效率高、工艺简单、操作方便,获得钨制品纯度高、高致密度、且形状任意、壁厚均匀。 |
申请公布号 |
CN1962935A |
申请公布日期 |
2007.05.16 |
申请号 |
CN200610164939.7 |
申请日期 |
2006.12.08 |
申请人 |
北京工业大学 |
发明人 |
周美玲;马捷;王从曾 |
分类号 |
C23C16/448(2006.01);C23C16/06(2006.01);C23C16/52(2006.01);C23C16/56(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/448(2006.01) |
代理机构 |
北京思海天达知识产权代理有限公司 |
代理人 |
刘萍 |
主权项 |
1、一种高纯致密钨及合金制品的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)以铜制作具有所需钨制品形状的仿体;2)将上述铜仿体表面用有机溶剂洗净、干燥后放入反应室内;3)以WF6和高纯H2为沉积反应气体;沉积反应在常压下进行;沉积反应温度在400℃~800℃,反应气体配比范围为:1L/min H2流量对应1-5g/min WF6通入量;通过控制反应气体通入量控制沉积速度V≈0.5-2mm/h;4)沉积后关闭气体,继续通入H2冷却到室温、取出、切割打磨仿体后用硝酸溶解或加热熔化异型仿体。 |
地址 |
100022北京市朝阳区平乐园100号 |