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OMPOSIçõES DE LIMPEZA PARA MICROELETRÈNICOS CONTENDO áCIDOS DE HALOGêNIO OXIGENADOS, SAIS E DERIVADOS DOS MESMOS. A presente invenção refere-se a composições de limpeza de microeletrónicos para a limpeza de sbstratos microeletrónicos e especificamente compostos de limpeza úteis com, e tendo uma compatibilidade aumentada com substratos microeletrónicos caraterizados por dióxido de silício,dielétricos sensiveis de baixo-k e de alto-k e metalizações de cobre, tungstênio, tântalo, níquel, ouro, cobalto, paládio, platina, cromo, rutênio, rádio, háfnio, titânio, molibdênio, estanho e outras metalizações,bem como metelizações de substratos de AI ou AI(cu) e tecnologias interconectadas avançadas, são prividas por composições de limpeza de microeletrónicos compreendendo ácidos de halogênio, sais e derivados dos mesmos.
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