| 主权项 |
1.一种制造显示器的方法,该显示器包括一基底,在 该基底上具有例如交替的矩阵结构,该结构划分许 多区域,其中因着喷墨列印头之助,每一区域沉积 定量液体,其特性在于因着至少一个感测器之助, 在该基底上实施测量,以判断各区域的位置,并依 据所判断位置而控制列印头,以便在正确地方递送 定量液体。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中至少一个感测 器在交替的结构上,或延伸邻近或区域定义之结构 间的参考结构上实施测量。 3.如申请专利范围第1或2项之方法,其中列印头具 有多个彼此相邻的喷嘴,如此多个喷嘴可同时填注 ,且其中透由两第一感测器判断结构的倾斜度,并 据此控制喷嘴动作的时间,如此相对于列印头的倾 斜度可予以修正。 4.如申请专利范围第1项之方法,其中列印头以相对 于基底之特定主要移动方向进行更换,其中至少一 第二感测器用于以延伸垂直于主要移动方向的横 切向,监看结构的位置,同时列印头是可替换的,以 相对于基底之横切方向,替换列印头或座台,并依 据该至少一第二感测器所监看之结构的位置,控制 该横向替换。 5.如申请专利范围第1项之方法,其中第三感测器用 于测量已沉积于区域中之液体的属性,例如颜色、 沉积位置、量及/或层厚度。 6.如申请专利范围第5项之方法,其中依据所监看属 性,控制列印头将递送之液体的量及/或递送时间 。 7.一种显示器制造装置,用以执行如申请专利范围 第1项之方法,其中该装置具有一座台以置放一基 底,具有一喷墨列印头以于所需的时间递送液体, 及具有一替代总成以替换有关该基底的列印头,特 性在于至少一感测器监看该基底上的结构,及一操 纵装置,处理由该至少一感测器所产生的信号,以 控制替代总成的替换,及控制列印头依据由该至少 一感测器所产生信号,而递送液体的时间。 8.如申请专利范围第7项之显示器制造装置,其中该 至少一感测器的位置相对于列印头是固定的。 9.如申请专利范围第7或8项之显示器制造装置,其 中该替代总成相对于基底,以特定主要行动方向进 行列印头替换,同时两第一感测器用于判断结构相 对于主要行动方向的倾斜度,该操纵装置则用于测 量列印头递送液体的时间,如此所判断的倾斜度可 予以修正。 10.如申请专利范围第9项之显示器制造装置,其中 该至少一第二感测器用于以延伸垂直于主要移动 方向的横切向,监看结构的位置;替代总成的设计, 使得列印头是可替换的,以相对于基底之横切方向 ,替换列印头或座台;操纵装置用于依据该至少一 第二感测器所监看之结构的位置,控制该横向替换 。 11.如申请专利范围第7项之显示器制造装置,其中 对列印头的每一喷嘴而言,对应各喷嘴之第三感测 器用于判断该喷嘴所递送液体的属性。 12.如申请专利范围第11项之显示器制造装置,其中 被监看之至少一项属性为颜色、量、层厚度及/或 所递送液体的位置。 13.如申请专利范围第11或12项之显示器制造装置, 其中操纵装置用于依据有关各个喷嘴之第三感测 器所产生的信号,控制各个喷嘴的液体递送。 14.如申请专利范围第7项之显示器制造装置,其中 至少一感测器如同CD-ROM或DVD播放机中所使用的光 检讯器。 15.如申请专利范围第7项之显示器制造装置,其中 至少一感测器为具有高位置准确度的电容或涡流 电流感测器。 16.一种显示器,包括一基底,其上具有例如交替的 矩阵结构,该结构划分许多区域,其中因着喷墨列 印头之助,每一区域沉积定量液体,其特性在于该 显示器系因着申请专利范围第1项的方法之助而获 得。 17.一种基底,其使用于如申请专利范围第1项之方 法中,具有定义该区域的结构,及具有延伸邻近或 区域定义之结构间的参考结构。 18.如申请专利范围第17项之基底,其中该参考结构 并至或并入区域定义之结构,如此可使区域定义之 结构最佳化,以利感测器监看。 图式简单说明: 图1显示具有相对行进之喷墨列印头的基底俯视图 ;及 图2至4显示可能的列印头设计之若干变化的俯视 图。 |
