发明名称 擦抹容器的改良结构
摘要 一种擦抹容器的改良结构,具有一个可收容擦抹液的瓶体,在其上方设有一连接座,而连接座上则连接一顶部设有一可滚动球体的球座。在连接座与球座之间设有一位移机构及阻挡机构。位移机构使得球座与连接座具有第一位移位置及第二位移位置。连接座与球座在第一位移位置时,阻挡机构形成关闭状态,瓶体中的擦抹液被阻断无法流出球体,藉由滚动的球体与皮肤接触,而可达到按摩功能。当位移机构使得连接座与球座在第二位移位置时,阻挡机构被开启,而瓶体中的擦抹液可流通经过连接座至球座顶部的球体流出,以达成擦抹功能。
申请公布号 TWM311432 申请公布日期 2007.05.11
申请号 TW095217084 申请日期 2006.09.25
申请人 三正贸易有限公司 发明人 谢俊哲
分类号 A61M35/00(2006.01) 主分类号 A61M35/00(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种擦抹容器的改良结构,系包括: 一瓶体,具有一开口,并于内部收容擦抹液; 一连接座,连接于上述瓶体之开口, 一球座,系与上述连接座连接,其上方具有一球槽 及贯通连接座及球槽的通道; 一球体,以可滚动方式装置于上述球槽内,并一半 以上被收纳于球槽内及一部份露出于球槽外; 一位移机构,设置于上述连接座及球座上,经操作 使得连接座及球座具有第一位移位置及第二位移 位置;及 一阻挡机构,设置于上述球座之通道上; 当上述连接座及球座被操作至第一位移位置时,阻 挡机构形成关闭状态,瓶体中的擦抹液被阻断无法 流出球体,藉由滚动的球体与皮肤接触,而可达到 按摩功能;当上述连接座及球座被操作至第二位移 位置时,阻挡机构被开启,而瓶体中的擦抹液可流 通经过连接座至球座顶部露于球槽外的球体部份 流出,以达成擦抹功能。 2.依据申请专利范围第1项所述之擦抹容器的改良 结构,进一步包括一限位机构,系设置于上述球座 及连接座之间,限制上述位移机构第一及第二位移 位置之距离。 3.依据申请专利范围第1项所述之擦抹容器的改良 结构,进一步包括一定位机构,设置于上述球座及 连接座之间,使得位移机构操作使得连接座及球座 在第二位移位置时,能保持连接座与球座于第二位 移位置定位。 4.依据申请专利范围第1项所述之擦抹容器的改良 结构,其中位移机构包含了一设置于上述连接座表 面的上斜凸条及一设置于上述球座内的下斜凸条, 该上斜凸条下缘为一上斜面及该下斜凸条上缘为 下斜面,下斜面与上斜面相接触,藉由操作使上及 下斜面接触面移动,使得连接座及球座具有上述第 一位移位置及第二位移位置。 5.依据申请专利范围第4项所述之擦抹容器的改良 结构,其中瓶体上端形成一螺纹部系与连接座内部 下方设置的一内螺纹相螺合,以将瓶体与连接座连 接。 6.依据申请专利范围第5项所述之擦抹容器的改良 结构,其中连接座具有一基座,上述内螺纹设于该 基座内壁上;该基底的上方形成一直径较小的突座 ,而突座上方形成一口径更小的管体;上述球座底 部具有一套筒,该套筒系适以套合于连接座的突座 上,利用套筒相对突座旋转以操作上述位移机构以 达到上述第一或第二位移位置。 7.依据申请专利范围第6项所述之擦抹容器的改良 结构,其中位移机构之上斜凸条系设置于连接座之 突座表面,而下斜凸条设置于球座之套筒内壁。 8.依据申请专利范围第7项所述之擦抹容器的改良 结构,其中套筒内壁设有两个定位块,而突座上相 对设有两个定位槽,在球座相对连接座旋转至第二 位移位置时,该定位块正好卡入该定位槽,使球座 及连接座产生定位效果以保持于第二位移位置。 9.依据申请专利范围第8项所述之擦抹容器的改良 结构,其中球座上方球槽系为漏斗形,并在该漏斗 形的球槽接近底部位置设有对称的支撑块以支撑 球体底缘。 10.依据申请专利范围第9项所述之擦抹容器的改良 结构,其中球座在球槽与套筒之间以一连结部连结 ,该连结部内形成上述通道;而该通道包含相连通 的第一通道及第二通道;该第一通道位于下方,第 二通道位于上方;该第一通道之口径系大于上述连 接座之管体,且于该第一通道底缘设有一圈挡环, 其系与上述管体上缘所设之另一挡环相互形成止 挡作用,以限制上述连接座与球座位移距离而形成 一限位机构。 11.依据申请专利范围第10项所述之擦抹容器的改 良结构,其中第二通道口径大于上述连接座管体上 设置的一止挡柱,且于该第二通道内部设有一软质 垫圈,该垫圈内径小于止挡柱;藉由第二通道、垫 圈及止挡柱构成上述阻挡机构,使得位移机构被操 作至第一位移位置时,上述止挡柱伸入该第二通道 内,与该垫圈接触,以封闭第二通道。 12.依据申请专利范围第10项所述之擦抹容器的改 良结构,其中止挡柱与管体之间形成多个开槽供擦 抹液流通。 13.依据申请专利范围第1项所述之擦抹容器的改良 结构,进一步包括一盖体,系可盖合于上述瓶体上 方,以封闭球座、球体及连接座。 14.依据申请专利范围第13项所述之擦抹容器的改 良结构,其中盖体内部顶端形成一圈压环,在盖合 于瓶体时,该压环接触球体而使球体定位,以防止 球体滚动。 图式简单说明: 第一图代表本创作之分解图, 第二图代表本创作之部分组合图, 第三图代表本创作之组合图, 第四图代表本创作之组合平面部份剖视图, 第五图代表本创作去除盖体后的平面部份剖视图, 第五A图代表本创作依据第五图中连接座、球座及 球体之平面放大图,以显示位移机构之第一位移位 置, 第六图同第五图,但球座已被昇高, 第六A图代表本创作依据第五图中连接座、球座及 球体之平面放大图,以显示位移机构之第二位移位 置, 第七图代表本创作之球座之剖面图, 第八图代表本创作连接座之剖面图, 第九图代表本创作连接座之俯视图, 第十图代表本创作连接座之平面视图, 第十一图代表本创作应用于擦抹功能之示意图, 第十二图代表本创作应用于按摩功能之示意图。
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